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쿼츠(Quartz)는 가스함유량이 적고 전기전도를 생기게 하는 알칼리 성분을 거의 포함 하고 있지 않는 부도체 상태로 ‘실리카 Glass’라고 불립니다.

고순도화된 쿼츠는 광흡수가 적고 우수한 도광성을 가지고 있어 광파이버로서 중요한 소재이며 반도체에서는 주로 Dry Etch와 Diffusion 공정에 사용되며, 플라즈마 형성 후 챔버내의 플라즈마가 정확한 위치로 모이게 하는 역할과 절연 기능을 수행합니다.

내열, 내열충격, 내약품성을 이용하여 이화학 실험기구나 시계, 통신기 등 수정 진동자로써 사용되고 광파이버는 광일렉트로닉스 진보에 따라 광학부품으로 사용이 점점 증가하는 추세입니다.

(주)코마테크놀로지는 반도체 공정에 Quartz Parts 뿐 아니라, 쿼츠 윈도우 외 다양한 분야에 적용하고 있는 쿼츠 제품을 형상 가공부터 폴리싱 공정까지 전 공정 직접 제조 가능하여, 고객에 니즈에 따라 적용 가능한 장점이 있습니다.

PROPERTYVALUE
Purity(%)순도99.99
Bulk Density(g/㎤)밀도>2.15
Load0.5kg HV1=9.807N Vickers Hardness(GPa)버커스경도8.6
Bending Strength(MPa)굽힘강도70
Compressive Strength(MPa)압축강도1100
Poissons Ratio 포이손비0.17
Thermal Conductivity(W/mK)열전도1.5
Thermal Expansion(x10-6/℃)열팽창계수43
Specific Heat([RT]/kg.K)비열0.2
Volume Resistivity(Ωcm)체적고유사항>10
Dielectric Constant(25℃ 1MHz)유전상수3.75
  • 초고순도의 재질적 특성을 갖는다

    투명 석영 GLASS는 고순도의 무수규산을 높은 온도에서 용융하기 때문에 불순물의 함량이 극히 미량이며 불투명 석영 GLASS는 양질의 규석을 원료로 하여 SIO2 99.99% 이상의 순도로 대형벨자, 실리콘 정제장치 등에 쓰입니다.

  • 가스 함량이 적다

    반도체 산업에서는 고온에서 안정성이 높은 재질이 요구되는데 이러한 점에서 석영 GLASS는 다른 재질에 비해 월등히 뛰어납니다.

  • 열팽창 계수가 적고 고온에서 뛰어난 특성을 가진다

    팽창계수 5×9°C(0 - 1000 °C)로 급열, 급냉에 대해서 높은 내열성을 가지고 반도체 공정에서는 1100°C의 고온에서도 적용됩니다.

  • 비열과 비전도율

    비열은 890-1,140J/㎏(20-1000)이며 열전도율은 0°C에서 1.3w/mk, 100°C에서 1.5 w/mk입니다.
    불투명과 투명의 비열은 비슷하나 열전도율은 불투명 Glass가 다소 낮은편입니다.

  • 뛰어난 전기 절연체

    투명 석영 Glass는 전기전도를 생기게 하는 알카리 성분을 거의 포함하고 있지 않아 부도체이며 모든 주파수에 대해서 유전체 손실이 적어 초고주파에 있어서의 특성이 매우 우수하기 때문에 특수한 측정기나 통신기종에는 없어서는 안될 절연체로 널리 이용되고 있습니다.

> 쿼츠(Quartz)파트 주요제품

품명제품용도 및 설명
Focus Ring 플라즈마 형성 후 챔버내의 플라즈마가 정확한 위치로 모이게 하는 역할과 절연기능 수행. 최근 Si Focus로 일부 대체되고 있습니다.
2단 Ring 플라즈마의 압력을 제어하는 역할을 합니다.
Belljar 마이크로파를 투과시켜 플리즈마 형성을 제어하는 역할을 합니다.
Boat류 열산화막 확산 CVD(Chemical Vapor Deposition)공정에서 사용되며, 웨이퍼를 공정에 이송하기 위한 용기로서 사용됩니다.
Tube류 산화막 형성 또는 확산 공정에 사용되며 Boat류 제품을 감싸는 형태의 Quartz반응로 입니다.
Cap류 Quartz를 받쳐주는 제품으로 내부의 열손실이 없도록 보온역할을 합니다.
Bath류 Wafer세정공정과 Etching공정에서 Wafer에 손상을 주지 않으면서 담을 수 있는 사각의 통 입니다.
기타 주요제품 Wide Poket, Shadow Ring, Base Plate, Lifter Pin, Shield Ring...etc.

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